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复旦大学2023年11月政府采购意向公开

发布日期:2023-10-24   浏览次数:

为便于供应商及时了解政府采购信息, 根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》 (财库〔2020〕10号)等有关规定,现将复旦大学2023年11月政府采购意向公开政府采购意向公开如下:

序号 采购项目名称 意向编号 采购需求概况 预算金额(万元) 预计采购日期 采购品目 备注
1 膜厚仪2 YX20231040 拟采购2种膜厚仪各1台,第一台设备采用3D光学原理对精密器件及材料表面进行最小可达亚纳米级的厚度测量,其以白光干涉技术为原理,结合精密Z向扫描模块、3D建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像,通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析等。第二种膜厚仪可以测量的膜层厚度范围宽泛,最薄可以到10nm,最厚可达2mm,测量性能很好,核心部件具有不同波段的光学系统。 200 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
2 掩模版曝光机 YX20231041 本项目旨在采购一套定制化磁光综合测试系统,包含但不限于磁光克尔表征功能,用以研究和分析先进磁性材料的物性。主要功能包括磁畴结构的可视化、磁性材料的表面磁性评估。核心组成部分包括光学系统、磁场控制系统和数据分析系统,为深入理解和开发新型磁性材料提供必要的实验手段。 1200 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
3 磁光克尔显微镜 YX20231042 本项目旨在采购一套定制化磁光综合测试系统,包含但不限于磁光克尔表征功能,用以研究和分析先进磁性材料的物性。主要功能包括磁畴结构的可视化、磁性材料的表面磁性评估。核心组成部分包括光学系统、磁场控制系统和数据分析系统,为深入理解和开发新型磁性材料提供必要的实验手段 250 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
4 无掩膜下一代激光直写图形化系统 YX20231043 无掩膜下一代激光直写图形化系统是一种利用激光束在光敏材料上直接“绘制”所需图案的微纳米制造设备。通过精确控制激光的焦点位置和输出功率,实现无需传统光刻掩模即可制造精细结构。该设备广泛应用于微纳米器件制造、微流体芯片制造和生物传感器等领域。核心组成部分包括激光源、光学系统、运动控制系统和数据处理系统,其功能是实现高精度、高效率的微纳米结构制造,缩短产品研发周期。 174 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
5 介质层淀积系统 YX20231044 介质层淀积系统是一种用于制造薄膜材料的设备,通过物理或化学方法在基材上沉积介质材料,实现不同功能的薄膜制造。该设备主要应用于半导体器件、光电子器件和微电机系统(MEMS)的制造中。核心组成部分包括沉积源、真空系统、控制系统和样品夹持系统,其功能是实现高质量、高效率的介质层淀积,以满足不同应用领域的需求。 130 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
6 氧化硅/氮化硅刻蚀机 YX20231045 本项目拟采购硅基/磁性材料/氮化物材料体系兼容的精确刻蚀的设备。通过等离子体技术,实现多种材料体系的超高精确刻蚀,以制造微纳米结构和器件。主要应用于半导体器件制造、微电机系统(MEMS)制造和光电子器件制造等领域。核心组成部分包括刻蚀腔、等离子体源、真空系统和控制系统等。 420 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
7 高温氧化炉 YX20231046 高温氧化炉是为实现材料表面的氧化处理而定制的设备,其主要目的在于通过高温氧化过程,改变材料的物理和化学性质,从而满足特定的应用需求。该炉体可应用于固态材料研究,尤其是在制备氧化物薄膜和处理半导体材料方面。高温氧化炉的核心组成包括加热室,温度控制系统,以及氧气供应和流量控制系统,能够实现精确的温度和氧气流量控制,以确保材料氧化过程的稳定性和可重复性。 170 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
8 四座探针台1 YX20231047 本项目拟采购1批四座探针台,其是用于电性能测试的设备,其主要目的是通过四个独立的探针,实现对半导体材料或器件的电性能参数的精确测量。该设备能够提供稳定、可靠的电接触,以及精确的位置控制,从而实现对材料或器件的电阻、电容和电流等基本电性能参数的测量。四座探针台主要由机械结构、探针卡、测量系统以及数据采集和分析软件组成。 140 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
9 四座探针台2 YX20231048 该项目拟采购1台定制化多功能探针台,该设备是一种集多种测试功能及多种测试环境体系测量于一体的高精度电性能测试平台。通过根据需求进行高度定制化,可满足多种不同材料在不同外场/环境条件下器件的电性能测试需求,提供多通道和多参数的测试能力。该探针台包括可调探针头、高精度定位系统、多通道测量系统和先进的数据处理软件,能够实现对材料和器件的电阻、电容、电流等多种电性能参数的综合测试和分析。 100 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
10 真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备 YX20231049 该溅射镀膜设备是专为磁性器件的表面处理和镀膜设计的,其主要目的是通过高真空条件下的溅射过程,实现磁性材料的高质量、高均匀度的镀膜。该设备主要应用于磁性器件的制造和研究,提高器件的性能和稳定性。核心组成部分包括多腔体设计、高真空系统、溅射源以及膜层厚度和性质分析系统,能够实现高效率、高质量的溅射镀膜过程 700 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备
11 原子层沉积系统 YX20231050 原子层沉积系统是一种用于实现精确控制薄膜材料沉积的高精度设备。其主要目的是通过原子层沉积技术,实现单原子层的精确控制和高质量的薄膜生长。该系统主要应用于新型纳米材料和量子器件的制备和研究。其核心组成部分包括反应室、气体供应系统、温度控制系统以及膜层厚度和结构分析系统,能够为研究者提供精确、可靠的薄膜沉积环境。 300 2023年11月 A02330300 电子工业生产设备

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

复旦大学采购与招标管理中心

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