| 真空磁控溅射镀膜设备 | |
| 公开链接： | http://cgyx.ccgp.gov.cn/cgyx/pub/details?groupId=e9b106ac-c2d7-429a-a51f-664755e7b139 |
| 采购单位： | 微电子学院 |
| 采购项目名称： | 真空磁控溅射镀膜设备 |
| 预算金额： | 300万元 |
| 采购品目： | A02052402 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 能够实现8英寸基底的薄膜沉积，能制备厚度差异在±5%（8英寸）的硫系化合物、氧化物等材料的薄膜沉积。配备至少1个直流和1个射频电源，可以实现2个靶位的共溅射沉积。具有氩等离子体轰击，实现轻微刻蚀。本年度内到货并安装调试完毕。 |
| 预计采购时间： | 2024年06月 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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