| RIE刻蚀机 | |
| 公开链接： | http://cgyx.ccgp.gov.cn/cgyx/pub/details?groupId=93b9bd21-671c-4907-8ae0-16d694752cf7 |
| 采购单位： | 芯片与系统前沿技术研究院（筹） |
| 采购项目名称： | RIE刻蚀机 |
| 预算金额： | 211万元 |
| 采购品目： | A02330300 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 反应离子蚀刻 (RIE)是一种制造微观和纳米结构的等离子体蚀刻技术。 在RIE蚀刻过程中，样品表面与低压等离子体产生的高能离子/自由基相互作用形成挥发性化合物。 挥发性化合物从样品表面被去除，并实现了各向同性或各异性轮廓。通过优化干式蚀刻配方（腔体压力、射频功率、气体流量比），可以使用RIE蚀刻技术蚀刻各种类型的材料。本项目根据科研需求计划采购一台RIE刻蚀机。 |
| 预计采购时间： | 2024年10月 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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