| 脉冲激光沉积（PLD） | |
| 公开链接： | http://cgyx.ccgp.gov.cn/cgyx/pub/details?groupId=3610bb5d-6477-419e-b44f-5ccb1fa966ec |
| 采购单位： | 芯片与系统前沿技术研究院（筹） |
| 采购项目名称： | 脉冲激光沉积（PLD） |
| 预算金额： | 570万元 |
| 采购品目： | A02330300 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 脉冲激光沉积是将脉冲准分子激光所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于真空室内的靶材表面，使靶在极短的时间内加热熔化、气化直至使靶材表面产生高温高压等离子体，形成一个看起来像羽毛状的发光团一羽辉;等离子体羽辉垂直于靶材表面定向局域膨胀发射从而在衬底上沉积形成薄膜。 脉冲激光沉积(PLD)是一种新型的制膜技术，在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用。本项目根据目前科研需求计划采购一台脉冲激光沉积设备。 |
| 预计采购时间： | 2024年10月 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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