| 磁控溅射（PVD） | |
| 公开链接： | http://cgyx.ccgp.gov.cn/cgyx/pub/details?groupId=3610bb5d-6477-419e-b44f-5ccb1fa966ec |
| 采购单位： | 芯片与系统前沿技术研究院（筹） |
| 采购项目名称： | 磁控溅射（PVD） |
| 预算金额： | 720万元 |
| 采购品目： | A02330300 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 磁控溅射是集成电子束蒸发的物理气相沉积系统，也是一种高真空多靶溅镀系统该系统，适用于多种材料体系薄膜的制备，如实验室中用于在衬底上生长半导体薄膜以及一些金属电极，如Au Al，Ni，Ag等。 本项目根据科研需求计划采购两台磁控溅射设备。 |
| 预计采购时间： | 2024年10月 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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